零質量射流及其在流場主動控制中的應用探討.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、作為一種新興的主動流動控制技術,近年來零質量射流得到了廣大科技工作者的廣泛關注,并日益成為國際上研究的熱點問題之一。本文以實驗研究為主,結合數(shù)值模擬,就零質量射流激勵器幾何和激勵參數(shù)對射流流場的影響進行了較詳細地研究和分析,并對將零質量射流應用于超聲速流場主動控制中的可行性作了初步探索。 實驗利用結合相位鎖定技術的PIV系統(tǒng),從瞬時和平均流場兩方面對零質量射流流場進行了分析,揭示了零質量射流流場的特點及與常規(guī)射流的區(qū)別。重點討論

2、了激勵頻率、功率放大器參數(shù)、激勵器出口厚度、圓形出口孔徑、激勵器出口形狀等幾何和激勵參數(shù)對射流流場的影響,結果對激勵器設計和優(yōu)化具有指導意義。在單出口零質量射流研究的基礎上,以圓形出口雙射流組為主,討論了射流間距對射流組融合和發(fā)展過程的影響。最后對矩形出口和圓形出口的平行多射流組流場進行了初步分析,并將它們和單出口的射流流場進行了比較。 數(shù)值模擬采用FLUENT軟件、結合UDF函數(shù),對零質量射流在改善過膨脹狀態(tài)下非對稱噴管性能的

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