多晶硅CVD反應器中新型熱管傳熱性能研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、隨著電子信息和半導體產業(yè)迅速發(fā)展,工業(yè)上對高純的區(qū)熔級多晶硅需求量大大增加。然而傳統(tǒng)西門子法還原得到的多晶硅大部分只能達到太陽能級,只有少量能夠到達電子級多晶硅的純度要求。而硅烷法作為第二大多晶硅生產工藝,不僅能夠有效保證生成硅單質的純度,其650℃~800℃的反應溫度能夠大大減少還原爐能耗,隨著硅烷制造成本的降低和生產安全技術的改進和提高,硅烷法將會更具發(fā)展前景。因此開發(fā)一種適合硅烷法生產的新型CVD反應器是十分有意義的
  本

2、文對新型多晶硅CVD反應器中添加的熱管部件進行了設計,選擇滿足反應器溫度要求的汞為工作介質,確定不銹鋼316L為管殼材料。在熱管理論及設計原則的基礎上,確定了適當的熱管管徑。結合熱管與反應器中硅棒的位置關系完成特殊結構設計,利用有限元方法對該新型熱管進行了應力線性化分析,完成強度設計計算。
  對單根重力熱管的傳熱機理與熱阻模型進行研究,在經典Nusselt理論基礎上,增加對管內蒸汽與液膜相對運動剪切力的考慮,建立新的數值計算模型

3、,結果表明:以水為工作介質時界面剪切力會使液膜厚度高于Nusselt理論值,使凝結換熱系數低于Nusselt理論值;以汞為工作介質計算時發(fā)現由于汞的密度極大,模型計算所得結果與傳統(tǒng)理論值基本一致,凝結傳熱系數達到105W/(m2·K)。
  對新型C VD反應器冷卻段進行了三維數值模擬。結果表明:除進出口附近區(qū)域,筒體內主體流域速度值較為平均,壁面處流速要稍大于中部區(qū)域;對比分析兩種熱管長度比,得出減小冷凝段長度有利于增強整體湍動

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