超細鋁、硅氧化物的分散及穩(wěn)定性研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、在許多領域,超細顆粒的分散已成為提高產(chǎn)品質量和性能及提高工藝效率不可缺少且十分重的技術手段.在礦物加工領域,控制分散是獲得選擇性浮選分離的重要條件.在集成電路制造業(yè)的化學機械拋光工藝技術中,拋光劑超細SiO<,2>,Al<,2>O<,3>粒子的充分分散是獲得0.15μm芯片表面平整度的前提.該文以超細顆粒在液相介質中的賦存狀態(tài)的理論研究成果和化學機械拋光研磨液的應用研究基礎上展開工作.實驗研究了超細SiO<,2>,Al<,2>O<,3>

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