有關半導體工藝中離子注入能量的研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、由于集成電路行業(yè)的迅猛發(fā)展,離子注入由于其工藝干凈,控制非常精準,得到了廣泛的應用。隨著制造工藝越來越先進,離子注入逐漸在整個工藝當中起到相當重要的作用,它不再是某種離子在某個深度注入了一定劑量這樣簡單的一句話概括的了,而是還需要考慮此離子是以何種角度,怎樣的電流束注入進去,會不會有原子量污染或者能量污染。
　　 本論文主要研究的是離子注入時能量污染會不會在90nm工藝中起到非常關鍵的影響,工藝從微米到納米,由于線寬的越來越小,

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