結(jié)晶法提純金屬鎵的工藝及理論研究.pdf_第1頁(yè)
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1、隨著IT與新能源技術(shù)的發(fā)展,半導(dǎo)體材料完成了第二代半導(dǎo)體砷化鎵和第三代半導(dǎo)體氮化鎵的飛躍,鎵及其代表的Ⅲ-Ⅳ族化合物的優(yōu)良物性在此領(lǐng)域開(kāi)始發(fā)揮作用。鎵化合物半導(dǎo)體是光電技術(shù)及電子領(lǐng)域中的重要基礎(chǔ)材料,用于制造發(fā)光二極管、激光二極管、光電探測(cè)器、太陽(yáng)能電池、微波器件及超大規(guī)模集成電路。高純鎵是制備鎵化合物的重要原料,目前國(guó)內(nèi)國(guó)際市場(chǎng)對(duì)高純鎵的需求逐漸增大。
  本文主要研究結(jié)晶法提純金屬鎵的工藝,依據(jù)文獻(xiàn)和凝固原理,設(shè)計(jì)了具有單一穩(wěn)

2、定的縱向溫度梯度場(chǎng),金屬鎵自下而上凝固的結(jié)晶器裝置。通過(guò)結(jié)晶生長(zhǎng)實(shí)驗(yàn)的研究,對(duì)比不同結(jié)晶器裝置的結(jié)晶速率、結(jié)晶率及晶種引入方式,選擇內(nèi)徑為60mm的圓底結(jié)晶器進(jìn)行結(jié)晶提純條件實(shí)驗(yàn);在結(jié)晶條件實(shí)驗(yàn)中,研究結(jié)晶時(shí)間、結(jié)晶溫度對(duì)于單次結(jié)晶提純的影響,并確定出最佳的結(jié)晶提純工藝條件;根據(jù)上述結(jié)晶條件,進(jìn)行多次提純結(jié)晶實(shí)驗(yàn),研究結(jié)晶次數(shù)對(duì)提純的影響;同時(shí)根據(jù)結(jié)晶過(guò)程中鎵晶體生長(zhǎng)形貌的變化,結(jié)合晶體生長(zhǎng)理論,分析鎵晶體形貌與鎵晶體純度的關(guān)系。

3、>  實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,在內(nèi)徑為60mm的結(jié)晶器中,冷端溫度為9℃,結(jié)晶時(shí)間為30min的條件下,單次結(jié)晶除雜效果最好;在多次結(jié)晶提純實(shí)驗(yàn)中,控制單次結(jié)晶率為60%~70%,通過(guò)3次結(jié)晶提純操作,可以制備出5N級(jí)金屬鎵;結(jié)合晶體生長(zhǎng)理論,分析鎵晶體生長(zhǎng)形貌與鎵晶體純度的關(guān)系,雜質(zhì)Cu、Pb的電負(fù)性較Ga大,會(huì)造成鎵晶體生長(zhǎng)的缺陷,晶體生長(zhǎng)形貌表現(xiàn)為分層狀生長(zhǎng),而雜質(zhì)In的電負(fù)性較Ga小,不會(huì)引起晶體生長(zhǎng)形貌的缺陷,所以可以通過(guò)晶體形貌表面缺

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