基于軟壓印法制備大幅面亞波長減反射膜研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、基于亞波長結構來提高光學器件的減反射性能是一個重要的研究課題。對于很多光學器件來說,提高光的透過率有著十分重要的意義。特定的亞波長結構在兩種介質的分界面形成漸變的折射率層,使其能夠對寬光譜大角度入射的光有較強的減反射特性。相較于傳統(tǒng)的單層或多層減反射薄膜,亞波長減反結構更有研究價值和應用前景。
　　本論文中,基于軟光刻技術,采用一種改性的聚氨酯丙烯酸酯(polyurethane acrylate, PUA)軟模版在聚合物膜上制備亞

2、波長減反結構。其中PUA軟模版是由多孔陽極氧化鋁模版納米壓印制得,不必像傳統(tǒng)制備模版工藝一樣費時且昂貴。PUA軟模版有100nm的分辨率,而且表面亞波長結構的深寬比達到1.7。柔性PUA模版可以與待壓印基底有很好的共形接觸,且能有效地降低脫模難度。模擬發(fā)現(xiàn),與納米柱陣列結構相似,納米孔結構同樣有寬光譜、大角度高減反射特性。實驗發(fā)現(xiàn),對于可見光,雙面納米孔陣列透明膜的正入射光透過率可以達到98.7％,60°入射時的透過率可達92.5％。這

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